工業硅的制法與性質

用Si02含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，加熱到1900℃左右進行還原。此方法制得的硅純度為97%～98%，被稱作金屬硅。再將金屬硅融化后進行重結晶，用酸除去雜質，得到純度為99.7%～99.8%的金屬硅。如要將它做成半導體用硅，還要將其轉化成易于提純的液體或氣體形式，再經蒸餾、分解過程得到多晶硅，如需得到高純度的硅，則需要進行進一步的提純處理。

晶體硅為鋼灰色，無定形硅為黑色。無毒、無味。d2.33;熔點1410℃；平均熱容( 16～100℃)0. 1774cal/(g -℃)。晶體硅屬于原子晶體，硬而有光澤，是典型的半導體。在常溫下，除氟化氫以外，很難與其他物質發生反應，不溶于水、硝酸和鹽酸，溶于氫氟酸和堿液。在高溫下能與氧氣等多種元素化合。具有硬度高、不吸水、耐熱、耐酸、耐磨和耐老化等特點。硅在自然界分布極廣，地殼中約含27.6%．主要以二氧化硅和硅酸鹽的形式存在。